Osaka Kyoiku University Researcher Information
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研究者業績
基本情報
- 所属
- 大阪教育大学 教育学部教育協働学科 理数情報講座 教授
- 学位
- 工学修士(早稲田大学)博士(理学)(早稲田大学)
- 連絡先
- tkawagoecc.osaka-kyoiku.ac.jp
- 研究者番号
- 20346224
- ORCID ID
- https://orcid.org/0000-0002-7600-4767
- J-GLOBAL ID
- 200901008586193243
- researchmap会員ID
- 5000026349
研究キーワード
4経歴
9-
2010年4月
-
2007年4月 - 2010年3月
-
2002年4月 - 2007年3月
-
2006年10月 - 2006年12月
-
2005年10月 - 2006年3月
-
1999年4月 - 2002年3月
-
1997年4月 - 1999年3月
-
1994年4月 - 1997年3月
-
1987年4月 - 1994年3月
学歴
2-
1985年4月 - 1987年3月
-
1981年4月 - 1985年3月
委員歴
2-
2005年
-
2003年 - 2003年
受賞
1-
1996年6月
論文
55-
Japanese Journal of Applied Physics 63(3) 03SP58/1-7 2024年2月29日 査読有り筆頭著者責任著者Abstract We investigate the growth of ultrathin Cr films on a Au(001) surface and observe that the growth of 1.5 nm thick Cr layers at 290 K, followed by post-annealing at 520 K, results in high-quality epitaxial Cr(001) films with atomically flat large terraces and distinct surface states. Subsequently, these optimized growth conditions are successfully applied to the growth of 1 nm and 3 nm thick Cr films. Magnetic imaging of 1 and 1.5 nm thick Cr(001) films prepared under the optimized growth conditions is performed using spin-polarized scanning tunneling microscopy. Distinct magnetic contrasts featuring a topological antiferromagnetic (TAF) order are observed in both films; however, spin frustration originating from the density of screw dislocations for both films shows a significant difference. The 1.0 nm thick Cr film, which exhibits a clear TAF order with the suppression of a large spin-frustrated area, is suitable for application to spin-electronic devices.
-
2023 IEEE International Magnetic Conference - Short Papers (INTERMAG Short Papers) 2023年9月 査読有り筆頭著者責任著者
-
Japanese Journal of Applied Physics 62(4) 045003/1-7 2023年4月26日 査読有り筆頭著者責任著者Abstract We investigated the growth and surface morphology of 10 monolayer (ML)-thick Cr(001) films on clean Au(001) surfaces. High quality epitaxial Cr(001) films with large atomically flat terraces and distinct surface states were successfully fabricated through growth at 300 K and subsequent post-annealing at 520 K. At 300 K, spin-polarized scanning tunneling microscopy images of both the topological and magnetic structures of this Cr film were obtained. The magnetic images exhibited the following features: (1) The layered antiferromagnetic (AF) order appeared in adjacent terraces and one ML-depth shallow hole in the terraces; (2) significant spin frustrations induced by adjacent paired screw dislocations caused the AF domain formation with 90 degrees quantum axis rotation and a large spin frustration area, not always limited in the vicinity of screw dislocations. The feature (2) was qualitatively reproduced by the micromagnetic simulation. These findings may be essential for the further development of spin-electronics utilizing thin AF films.
-
Journal of Applied Physics 131(4) 045302/1-9 2022年1月31日 査読有り筆頭著者責任著者
-
Physical Review B 103(8) 085427/1-10 2021年2月18日 査読有り筆頭著者責任著者
主要なMISC
46-
31st International Colloquium on Scanning Probe Microscopy (ICSPM31) 2023年12月7日 筆頭著者責任著者
-
The 22nd International Vacuum Congress (IVC-22) 2022年9月 筆頭著者責任著者
-
6th Spin-Polarized Scanning Tunneling Microscopy International Conference (SPSTM 2016) , Chiba University, Japan 2016年8月 筆頭著者責任著者
-
SP-STM5 2014 International Conference, Sawmill Creek Resort, Huron, Ohio USA 2014年7月 筆頭著者責任著者
-
The 19th International Conference on Magnetism, Busan Korea 2012年7月 筆頭著者責任著者
-
The 5th International Workshop on Spin Currents, Sendai, Japan 2011年7月 筆頭著者責任著者
書籍等出版物
1共同研究・競争的資金等の研究課題
11-
日本学術振興会 科学研究費助成事業 基盤研究(C) 2021年4月 - 2024年3月
-
日本学術振興会 科学研究費助成事業 基盤研究(C) 2013年4月 - 2016年3月
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日本学術振興会 科学研究費助成事業 特定領域研究 2009年 - 2010年
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日本学術振興会 科学研究費助成事業 特定領域研究 2008年 - 2008年
-
日本学術振興会 科学研究費助成事業 基盤研究(B) 2003年 - 2005年